台积电投资超4亿美元高NA EUV光刻设备，研讨用途明确引领行业发展

6月4日消息，前不久台积电CEO魏哲家表示不会购买High NA EUV光刻机，此消息一度引发<强调>ASML公司股价大跌</强调>。

作为当前工艺最先进、产能最大的晶圆制造企业，台积电的表态对High NA EUV光刻机的前途影响是很大的，最近争议都没断过。

在日前的股东会上，魏哲家针对这一消息又进行了更全面的解释，表示公司不仅早已购入相关设备，目前正积极进行各项研发工作，并未因技术自满而停滞。

魏哲家指出，现阶段尚未导入量产，主要考量是生产成本仍偏高。

台积电的策略是持续优化设备生产力、降低成本，待时机成熟再正式导入生产线。

他还表示，台积电我们有买，但买几台就不好意思讲了。

从魏哲家的表态来看，他之所以重新回应这个问题，主要是缓解外界担心，因为之前表态不买引发外界担心台积电能否在未来2nm甚至1nm以下节点保持领先，这次强调他们买了High NA EUV光刻机做研究用，本质上就是让外界放心，强调台积电还会保持领先。

自从7nm节点正式使用EUV光刻机以来，当前的EUV光刻机也发展到了第二代，之前型号是EXE:3300到3400系列，NA值0.33（NA越高光刻分辨率越高），现在说的High NA EUV光刻机将NA值提升到了0.55，分辨率更高，型号从EXE:5000起。

但是售价也从之前2-2.5亿美元大涨到了4亿美元，未来ASML还计划扩展到NA 0.75的新一代EUV光刻机，预计成本要更高一层了，也难怪台积电也嫌贵。